Lĩnh vực ứng dụng của vật liệu mục tiêu tantalum

Chủ yếu được sử dụng trong lắng đọng hơi vật lý và các quá trình khác, trong quá trình phún xạ, các nguyên tử trên bề mặt mục tiêu tantalum bị bắn phá và lắng đọng dưới dạng màng mỏng trên đế để thu được vật liệu màng mỏng mong muốn.
Điểm nóng chảy của tantalum cao tới 2996 độ, cho phép các mục tiêu tantalum duy trì độ ổn định cấu trúc tốt trong-môi trường phún xạ nhiệt độ cao và không dễ bị biến dạng hoặc bay hơi. Mật độ thường trên 16,6g / cm ³, có thể làm giảm các vấn đề về nứt hoặc biến dạng trong quá trình phún xạ, đồng thời giảm sự bắn tung tóe của hạt và cải thiện chất lượng màng. Ở nhiệt độ phún xạ, nó không dễ bay hơi, đảm bảo tổn thất tối thiểu vật liệu mục tiêu trong quá trình phún xạ và cung cấp các nguyên tử tantalum ổn định cho quá trình lắng đọng màng mỏng.
Tính chất hóa học của tantalum rất ổn định và hầu như không phản ứng với các axit khác ngoại trừ axit hydrofluoric và axit sulfuric đậm đặc nóng. Nó cũng có thể được sử dụng trong thời gian dài trong môi trường hóa học khắc nghiệt và màng tantalum làm từ nó cũng có khả năng chống ăn mòn tốt. Bề mặt tantalum có xu hướng hình thành màng thụ động oxit tantalum dày đặc và ổn định, có thể ngăn chặn hiệu quả sự ăn mòn oxy hóa hơn nữa và cải thiện tuổi thọ của vật liệu.
Trường ứng dụng
Trong quá trình sản xuất mạch tích hợp, vật liệu mục tiêu tantalum được sử dụng để chuẩn bị các lớp rào cản khuếch tán, ngăn không cho các kết nối đồng khuếch tán vào đế silicon, cải thiện độ tin cậy và hiệu suất của thiết bị, đồng thời cũng có thể được sử dụng làm vật liệu cổng hoặc một phần của cổng kim loại cho MOSFET, cũng như các điện cực tụ điện trong các thiết bị bộ nhớ mật độ cao chẳng hạn như DRAM.
Trong quá trình sản xuất màn hình tinh thể lỏng (LCD) và điốt phát quang hữu cơ (OLED), mục tiêu tantalum được sử dụng để chuẩn bị các điện cực và lớp nối dây của bóng bán dẫn màng mỏng (TFT). Tính ổn định và độ dẫn điện của chúng giúp cải thiện chất lượng hiển thị. Ngoài ra, chúng còn có thể được sử dụng làm lớp bao bọc màng mỏng trong OLED để kéo dài tuổi thọ thiết bị.
Được sử dụng để chuẩn bị các màng quang học như lớp phủ hoặc bộ lọc chống phản chiếu, màng tantalum có độ tinh khiết cao{0}}có chỉ số khúc xạ đồng đều và độ bền tốt, phù hợp với các thiết bị quang học chính xác như ống kính máy ảnh và thiết bị laze. Trong các môi trường hóa học, dầu mỏ, hàng hải và các môi trường khác, lớp phủ chống ăn mòn-được làm từ vật liệu mục tiêu tantalum có thể bảo vệ hiệu quả thiết bị, đường ống và thùng chứa khỏi bị ăn mòn.