Việc làm sạch bề mặt của mục tiêu được thực hiện để loại bỏ bụi bẩn có thể có. Có thể sử dụng bốn bước để làm sạch mục tiêu bằng kim loại:
Ban đầu, việc làm sạch được thực hiện bằng cách sử dụng một miếng vải mềm, ngâm trong axeton, không có xơ vải;
Để làm sạch bằng cồn, quy trình thứ hai tương tự như quy trình thứ nhất;
Làm sạch bằng nước khử ion là bước thứ ba. Mục tiêu phải được sấy khô trong lò nướng trong 30 phút ở nhiệt độ 100 độ C sau khi được làm sạch bằng nước khử ion. Để làm sạch mục tiêu oxit và gốm, nên sử dụng "vải không có xơ".
Mục tiêu được làm sạch bằng argon áp suất cao, độ ẩm thấp trong bước thứ tư để loại bỏ bất kỳ tạp chất nào có thể dẫn đến hồ quang trong hệ thống phún xạ.
Hãy đảm bảo tay của bạn sạch sẽ và không có xơ vải trước khi sử dụng vật liệu mục tiêu. Không bao giờ đặt tay trực tiếp lên chất mục tiêu.
Các vết bắn tích tụ ở trung tâm và cả hai bên của rãnh phún xạ phải được loại bỏ dần dần để tránh đoản mạch và phóng điện do khoang bẩn gây ra trong quá trình phún xạ. Điều này cũng cho phép người dùng hoạt động liên tục ở mật độ năng lượng tối đa. Phút phún xạ.
