Vật liệu mục tiêu có nhiều ứng dụng, cơ hội phát triển thị trường rộng lớn và các ứng dụng tuyệt vời trong nhiều lĩnh vực. Để tăng tốc độ ion hóa khí argon xung quanh mục tiêu và cải thiện khả năng gần như tất cả các ion mục tiêu và argon sẽ va chạm với nhau. các thiết bị phún xạ hiện đại sử dụng nam châm mạnh để di chuyển các electron theo chuyển động xoắn ốc.
Tăng tốc độ ngừng hoạt động. Trong khi vật liệu gốm không dẫn điện thường sử dụng phương pháp phún xạ RF AC, thì các lớp kim loại thường sử dụng phương pháp phún xạ DC. Ý tưởng cơ bản là tác động lên các ion argon (Ar) lên mục tiêu bằng cách sử dụng sự phóng điện phát sáng trong chân không. Các cation của plasma sẽ phun vật chất lên bề mặt điện cực âm khi chúng tăng tốc ở đó. Vật liệu mục tiêu sẽ bay ra khi tiếp xúc và đọng lại trên bề mặt để tạo thành một màng mỏng.
Nhìn chung, việc ứng dụng phương pháp phún xạ để phủ màng có những đặc điểm sau:
(1) Chất màng có thể được tạo ra từ kim loại, hợp kim hoặc chất cách điện.
(2) Có thể sử dụng nhiều mục tiêu phức tạp để tạo ra một màng mỏng có cùng bố cục khi có hoàn cảnh phù hợp.
(3) Các phân tử vật liệu và khí mục tiêu có thể được trộn lẫn hoặc kết hợp bằng cách đưa oxy hoặc các khí hoạt tính khác vào khí quyển phóng điện.
(4) Có thể dễ dàng đạt được độ dày màng có độ chính xác cao bằng cách kiểm soát dòng điện đầu vào mục tiêu và thời gian phún xạ.
(5) Nó phù hợp hơn với việc tạo ra các màng đồng nhất có diện tích lớn khi so sánh với các phương pháp khác.
(6) Vị trí mục tiêu và chất nền có thể được sắp xếp tự do và các hạt phún xạ về cơ bản không bị ảnh hưởng bởi trọng lực.
