Lá tantalum có mật độ 16,6g/cm ³, biểu thị mật độ cao; Điểm nóng chảy khoảng 3017 độ C, khả năng chịu nhiệt độ cao cực kỳ xuất sắc; Hệ số giãn nở nhiệt thấp, ổn định kích thước tốt khi thay đổi nhiệt độ; Nó cũng có tính dẫn điện và dẫn nhiệt tốt. Ngoài axit hydrofluoric và axit sunfuric đậm đặc nóng, lá tantalum có khả năng kháng các axit và dung môi hóa học khác mạnh mẽ và có thể duy trì sự ổn định trong các môi trường hóa học khác nhau; Ở nhiệt độ phòng, một màng oxit dày đặc hình thành trên bề mặt lá tantalum để ngăn chặn quá trình oxy hóa tiếp theo. Lá tantalum cũng có thể duy trì độ ổn định hóa học tốt ở nhiệt độ cao hoặc môi trường hóa học cụ thể.
Lá tantalum là một tấm vật liệu kim loại tantalum mỏng, thường có độ dày từ 0,001 mm đến 0,5 mm.
Với nhiệt độ nóng chảy lên tới 2996 độ, nó có thể duy trì hiệu suất ổn định trong môi trường nhiệt độ cao và có thể được sử dụng để sản xuất các bộ phận-chịu nhiệt độ cao. Mật độ khoảng 16,6g/cm³, có độ bền cao và khả năng chống va đập tốt. Hệ số giãn nở nhiệt rất nhỏ, chỉ giãn nở 6,6 phần triệu khi tăng thêm một độ C. Nó có thể duy trì hình dạng và đặc tính ban đầu trong môi trường nhiệt độ cao và áp suất cao, làm giảm ảnh hưởng của ứng suất nhiệt. Nó có khả năng kháng axit, bazơ và clorua mạnh, đồng thời không hoạt động với dung dịch kiềm, khí clo, nước brom, axit sulfuric loãng và nhiều hóa chất khác ở nhiệt độ phòng. Nó có thể được sử dụng để sản xuất thiết bị-chống ăn mòn. Nó có thể tạo thành một màng oxit dày đặc trong không khí, cải thiện hơn nữa khả năng chống ăn mòn và độ ổn định. Lá tantalum dễ dàng gia công thành các tấm mỏng hoặc dây mịn, có hiệu suất gia công nguội tốt và có thể chế tạo thành nhiều hình dạng và kích cỡ khác nhau của sản phẩm thông qua các quy trình như cán và dập. Mặc dù tantalum có độ cứng tương đối thấp, nhưng lá tantalum có độ bền và độ dẻo dai cao, có thể chịu được một số ngoại lực và biến dạng nhất định mà không bị gãy.
Các lớp dẫn điện siêu mỏng hoặc các lớp rào cản có thể được chuẩn bị trong quá trình sản xuất chip và cũng có thể được sử dụng để sản xuất các điện cực điện môi-k cao trong DRAM nhằm cải thiện hiệu suất điện dung. Đây là lựa chọn lý tưởng cho vật liệu điện cực trong tụ gốm nhiều lớp. Trong các tụ điện điện phân tantalum, một lớp điện môi được tạo ra thông qua quá trình anodizing, đạt được mật độ điện dung cao và dòng rò thấp. Nó phù hợp với các tình huống-điện áp cao và tần số{6}}cao chẳng hạn như trạm gốc 5G và thiết bị điện tử trên xe. Do khả năng tương thích sinh học tốt và khả năng chống ăn mòn, nó có thể được sử dụng để sản xuất đinh xương chỉnh hình, tấm xương, ống đỡ động mạch tim, v.v. Lá tantalum xốp trên bề mặt cũng có thể thúc đẩy sự phát triển của mô; Về mặt cấy ghép nha khoa, không có phản ứng đào thải với mô người. Có thể được sử dụng làm vật liệu ốp hoặc đường ống làm mát trong lò phản ứng hạt nhân, với đặc tính chịu nhiệt độ cao và chống bức xạ; Nó cũng có thể được sử dụng làm lớp che chắn cho các thùng chứa chất thải hạt nhân.
