Mục tiêu phun nhiệt quay có cấu trúc vi mô được tạo thành từ các hạt tròn, phẳng giống như bánh và hướng hạt song song với trục quay. Tổ chức chứa nhiều lỗ chân lông ở quy mô micron và độ xốp tổng thể của nó cao tới { {0}}%. Chất phủ, phương pháp phun và tốc độ dòng khí đều có tác động đáng kể đến số lượng và hình dạng của các lỗ rỗng. Sự hấp phụ và giải hấp oxy cũng như độ ẩm xung quanh trong quá trình sản xuất và bảo quản mục tiêu có mối tương quan chặt chẽ với các lỗ chân lông. Do đó, trước khi phún xạ, mục tiêu phun nhiệt cần loại bỏ khí hấp phụ khỏi bề mặt bằng cách sử dụng bơm hỗ trợ cách ly.
Bởi vì phun nhiệt có thể phủ lên các vật thể như thanh, dây và các hạt bột không bay hơi trước khi tan chảy nên nó có thể được sử dụng để phủ nhiều loại vật liệu, bao gồm kim loại, hợp kim và gốm sứ. Mục tiêu đúc nhiệt hạch chỉ có thể được làm bằng kim loại hoặc hợp kim có điểm nóng chảy trùng với điểm nóng chảy của máy đúc. Đồ gốm giòn không tốt cho việc đúc. Cần có thiết bị đúc đặc biệt nếu điểm nóng chảy quá cao. Ngoài ra, một số vật liệu gốm sẽ hòa tan hoặc phân hủy trước khi nóng chảy.
